При новому генеральному директорі корпорація intel перестала приховувати, що збирається стати першим покупцем літографічного обладнання asml, що поєднує наджорстке ультрафіолетове випромінювання з високим числовим значенням апертури. На цьому тижні компанії підтвердили, що домовленість про постачання такого обладнання до 2025 року дійсно досягнута.
Джерело зображення: asml
Для intel це означає, що вона не тільки випередить конкурентів в особі tsmc і samsung за термінами освоєння так званої high na літографії, але і отримає необхідне обладнання до 2025 року. Нове покоління літографії intel має намір застосувати при виробництві з використанням техпроцесу 18a, відповідного нормам в 18 ангстрем — десятих часток нанометра. Ще в рамках попередньої технології 20a компанія додасть використання структури транзисторів ribbonfet і метод розміщення силової розводки powervia зі зворотного боку кристала. Ці два етапи еволюції фірмової літографії будуть освоєні до першої половини 2024 року, але перехід на euv-літографію з високим значенням апертури відбудеться лише в 2025 році. Тепер це підтверджується і спільною заявою з asml.
Холдинг з нідерландів до цього терміну зобов’язується передати intel перший літографічний сканер серії twinscan exe:5200, який забезпечить роботу зі значенням апертури 0,55 і обробку більше 200 кремнієвих пластин на годину. Зрозуміло, однією літографічною машиною співпраця компаній в цій сфері не обмежиться, і надалі поставки сканерів даної серії продовжаться. Сканери попереднього покоління забезпечують значення апертури не більше 0,33, а тому перехід на машини нового сімейства дозволить збільшити роздільну здатність обладнання і створювати ще більш дрібні напівпровідникові структури.
Корпорація intel раніше повідомляла, що її техпроцесом 18a вже зацікавилися клієнти, пов’язані з оборонними замовленнями сша. Передбачається, що освоїти відповідну літографічну технологію компанії допоможуть фахівці ibm, а перше підприємство з випуску компонентів даного класу передбачувано розташується на території сша.
